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高端人才科研啟動(dòng)費(fèi)購原子力顯微鏡需求公示
2016/1/5 9:11:49
項(xiàng)目名稱 |
原子力顯微鏡 |
是否預(yù)選項(xiàng)目 |
否 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
采購人名稱 |
深圳大學(xué) |
采購方式 |
公開招標(biāo) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
財(cái)政預(yù)算限額(元) |
1680000 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
項(xiàng)目背景 |
原子力顯微鏡 項(xiàng)目是(深圳市財(cái)政委員會(huì)批復(fù)的高端人才科研啟動(dòng)費(fèi))項(xiàng)目。
設(shè)備主要用途是:原子力顯微鏡一種新型納米顯微技術(shù),具有分辨率高、樣本制作方便等優(yōu)點(diǎn)。原子力顯微鏡的應(yīng)用范圍廣泛,它不僅可以在常溫大氣環(huán)境下測量樣品的表面微觀形貌,還可以測量樣品表面的物理、化學(xué)、機(jī)械、電子、生物等特性,拓展樣品縱向的深度信息,被譽(yù)為“開啟納米世界的鑰匙”,甚至可以在進(jìn)行納米微觀刻蝕。該設(shè)備在所屬項(xiàng)目中是作為聚合物刷圖案制備與表征的關(guān)鍵設(shè)備。 該設(shè)備項(xiàng)目預(yù)算為168萬。 |
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投標(biāo)人資質(zhì)要求 |
1)投標(biāo)人”系指響應(yīng)采購文件要求、參加本次招標(biāo)采購的供應(yīng)商。 (1) 投標(biāo)人必須是來自中華人民共和國或是與中華人民共和國有正常貿(mào)易往來的國家或地區(qū)(以下簡稱“合格來源國/地區(qū)”)的法人或其他組織,在法律上和財(cái)務(wù)上獨(dú)立、合法運(yùn)作并獨(dú)立于招標(biāo)人和招標(biāo)機(jī)構(gòu),具有相關(guān)經(jīng)營范圍,有資格和能力提供本采購項(xiàng)目的貨物及服務(wù)的制造商或代理商(或經(jīng)銷商)。須提供營業(yè)執(zhí)照或企業(yè)注冊(cè)證明復(fù)印件(經(jīng)營范圍必須涵蓋本次招標(biāo)貨物,加蓋公章)。深圳大學(xué)是科教儀器設(shè)備減免稅單位,如果是境外供貨,投標(biāo)人應(yīng)有境外供貨與外幣結(jié)算資格或者是取得了境外供貨貿(mào)易商的投標(biāo)授權(quán)。 若投標(biāo)人按照合同提供的貨物不是投標(biāo)人自己制造的,投標(biāo)人應(yīng)得到貨物制造商同意其在本次投標(biāo)中提供該貨物的正式授權(quán)書原件或是合法代理商(若投標(biāo)人為合法代理商應(yīng)出具有效代理證明掃描件,制造商除外)。 (2)證明投標(biāo)人已具備履行合同所需的財(cái)務(wù)、技術(shù)和生產(chǎn)能力的文件。 (3)投標(biāo)人須提供設(shè)備在國內(nèi)的銷售業(yè)績表、合同復(fù)印件或中標(biāo)通知書復(fù)印件(表中應(yīng)列出設(shè)備的出廠日期、用戶名稱、地址、聯(lián)系人及聯(lián)系方式等) (4)參與國際招標(biāo)的投標(biāo)人必須在中國國際招標(biāo)網(wǎng)www.chinabidding.com 注冊(cè)成為會(huì)員,具有深圳市政府采購注冊(cè)供應(yīng)商資格。
2)參與政府采購項(xiàng)目投標(biāo)的供應(yīng)商近三年內(nèi)無行賄犯罪記錄(由采購中心定期向市人民檢察院申請(qǐng)對(duì)政府采購供應(yīng)商庫中注冊(cè)有效的供應(yīng)商進(jìn)行集中查詢,投標(biāo)文件中無需提供證明材料); |
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貨物清單 |
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具體技術(shù)要求 |
1.采購貨物配置功能要求,各設(shè)備的主要技術(shù)參數(shù)、性能規(guī)格
技術(shù)指標(biāo)
Specifications
原子力顯微鏡主機(jī)
Atomic force microscope main unit
原子力顯微鏡的應(yīng)用范圍廣泛,可以在常溫大氣環(huán)境下測量樣品的表面微觀形貌,還可以測量樣品表面的物理、化學(xué)、機(jī)械、電子、生物等特性,拓展樣品縱向的深度信息。要求配備聚合物筆印刷功能
The atomic force microscopy has a wide range of applications, and can be used to measure the surface morphology of the samples under normal temperature and atmospheric environment. The physical, chemical, mechanical, electronic, biological and other characteristics of the sample surface can be measured, also expand the depth information of the sample. Required polymer pen lithography function
1、 工作模式
Working mode
★1.1真正的非接觸式
True non-contact mode
1.2接觸式
Contact mode
1.3輕敲式
Tapping mode
1.4橫向力模式(LFM)
Lateral force mode
1.5力-距離曲線(F-D)
Force distance curve
1.6相位像
Phase image
★2、掃描器 Scanner
2.1閉環(huán)平板掃描器
Closed loop feedback scanner
2.2 XY掃描范圍:100um×100um
XY scan range: 100 × 100 μm
2.3分辨率:閉環(huán)0.2nm,開環(huán)0.01nm
Resolution:0.2 nm (closed-loop), < 0.01 nm (open-loop)
2.4 Z掃描范圍:12um,分辨率:0.001nm
Z Scan range: 12 μm, Resolution: 0.001nm
3、原子力顯微鏡頭部
AFM Head
3.1 聚焦波長:
830nm Focusing wavelength:830nm
3.2工作范圍:12um(噪音水平0.03nm)
Moving range:12um (Noise level: 0.03 nm)
3.3 含:一個(gè)高伺服的撓性導(dǎo)向Z掃描器;一個(gè)夾裝探針的探針手;超亮二極管具有低相干性;預(yù)先對(duì)準(zhǔn)的卡片裝配,換探針時(shí)無需拿下頭部
Including: one high servo flexible steering Z scanner; one probe hand with a clamp probe; a super light diode with a low coherence; a pre aligned card assembly, without taking the head when changing the probe.
★4、聚合物筆印刷頭部
Polymer Pen Lithography Head
4.1聚合物筆印刷功能描述:通過對(duì)被轉(zhuǎn)移材料的精確控制,可以在襯底表面構(gòu)造出任意的納米結(jié)構(gòu),達(dá)到微/納米尺度加工精度。Polymer Pen Lithograph Function introduction: By the precise control of the transferred material,the structure can be constructed on the surface of the substrate to achieve the accuracy of micro / nano scale processing.
4.2工作范圍:25um
Working range:25um
4.3 含:一個(gè)高伺服的撓性導(dǎo)向Z掃描器;PPL探針手,水平角度:0度;10個(gè)PPL探針架
Including: one high servo flexible steering Z scanner; one PPL probe hand, horizontal angle: 0 degree; ten PPL probe carriages
5、輔助觀察系統(tǒng)
Assistant observation system
5.1樣品和探針到成像部件的光路嚴(yán)格同軸
Top view of sample and probe by providing the natural on-axis view from the top with high clarity
5.2 放大倍數(shù):300倍
Magnification: 300
5.3 分辨率:1um
Resolution: ~1 μm
5.4 可觀察區(qū)域:480 × 360 μm
Field of View: 480 × 360 μm
5.5自動(dòng)聚焦臺(tái)的垂直行程:20mm
Vertical stroke of the auto focus table:20mm
6、成像系統(tǒng)
Imaging system
6.1 高分辨率數(shù)字變焦可調(diào)視場成像部件
Uses high resolution digital imaging system
6.2 最大分辨率:2440*1830
Effective Picture Elements: 2440 × 1830
6.3 視場:最大1680*1260 μm;最小550*412 μm
Field of View: max: 1680 × 1260 μm ;min: 550 × 412 μm (variable)
7、XY自動(dòng)高精度樣品臺(tái)
XY Motorized XY Stage
★7.1 行程范圍:150mm×150mm
Travels up to 150 mm × 150 mm in both X and Y direction
★7.2 樣品尺寸:150mm×150mm
Sample size: Up to 150 × 150 mm
7.3 樣品厚度:20mm
Sample thickness: Up to 20 mm thick
7.4 支撐重量:500g
Working sample load: Up to 500 g
8、馬達(dá)控制Z方向樣品臺(tái)
Motorized Z Stage
★8.1 Z方向行程:27.5um
Z travel range: 27.5 mm
8.2 精度:0.1um
resolution :0.1 μm
8.3 重復(fù)性:2um
repeatability :2 μm
9、軟件
Software
9.1專用的系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)獲取軟件,實(shí)時(shí)調(diào)整反饋增益、設(shè)置點(diǎn)、驅(qū)動(dòng)頻率/振幅/相位;AFM數(shù)據(jù)分析軟件可運(yùn)行在Windows。
XEP for data acquisition and optical view. XEI for image processing, analysis, and presentation. AFM data analysis software can be run in Windows
★9.2 聚合物筆印刷軟件
Software for Polymer Pen Lithography
9.2.1支持筆畫類型:點(diǎn)、線、點(diǎn)陣、線列、圖案
Pattern type: Point, Line, Array of dots, Array of lines, and Bitmap
9.2.2支持筆畫控制參數(shù):
Control windows for patterning parameters
點(diǎn)及點(diǎn)陣的停留時(shí)間、Z方向的伸長/提起距離、Z方向的伸長/提起速度;
Point & point array: Dwell time, Z extension/lift height, and Z extension/lift speed
線及線列的停留時(shí)間、Z方向的伸長/提起距離、Z方向的伸長/提起速度、劃線速度;
Line & line array: Dwell time, Z extension/lift height, Z extension/lift speed, and Line speed
圖案每種顏色的停留時(shí)間、Z方向的伸長/提起距離、Z方向的伸長/提起速度;
Bitmap: Dwell time, Z extension/lift height, and Z extension/lift speed for each color value
9.2.3 用于調(diào)整樣品及針尖的水平系統(tǒng)
Leveling system for sample/tip align
9.2.4 可以打開或保存為XML文件
File format: XML
10、附件:標(biāo)準(zhǔn)光柵、10根接觸式探針和10根非接觸式探針、10個(gè)樣品臺(tái)
Accessories: standard grating, 10 contact probes and 10 non-contact probes, 10 sample tables
原子力顯微鏡環(huán)境倉
Environmental Chamber (Glove Box) for AFM
1、 環(huán)境倉尺寸:完全包容原子力顯微鏡主機(jī),控制整體氣氛
Box size: Fully inclusive of the atomic force microscopy main unit, control the overall atmosphere
2、 環(huán)境倉厚度:≧15mm
Box thick:≧15 mm
3、 環(huán)境倉材質(zhì):亞克力材質(zhì)
Box material: acrylic
4、含:乳膠手套、進(jìn)樣室、氣體交換口
with latex gloves ,an Antechambe, electrical feed-throughs and gas exchange outlets
原子力顯微鏡濕度控制系統(tǒng)
Humidity Control System for AFM
1、 作用:控制環(huán)境倉的濕度
Controls the humidity of the Glove Box option
2、 濕度控制范圍:從2到90%
Humidity control range: from 2 to 90 %
主動(dòng)式減震臺(tái)
Integrated Active Vibration Isolation
1、 作用:通過電磁換能器的直接速度反饋的主動(dòng)隔振,以消除地面振動(dòng)。
Provides active vibration isolation with direct velocity feedback via electromagnetic transducers to cancel out the floor vibration.
2、 減震頻率:1.2~ 200HZ
Active 1.2 Hz to 200 Hz
標(biāo)準(zhǔn)隔音罩
Acoustic Enclosure (Bottom Enclosure)
1、 作用:環(huán)境密封隔音罩,以阻止外部聲和噪音
Environmentally sealed acoustic enclosure to block external acoustic and light noise
2、 尺寸:820×920×1190毫米
Size: 820×920×1190mm
3、 含:大理石落地平臺(tái)
Including: Marble landing platform |
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商務(wù)需求 |
備注:
1. “(一)免費(fèi)保修期內(nèi)售后服務(wù)要求”部分,請(qǐng)?jiān)敿?xì)列明免費(fèi)保修期內(nèi)的售后服務(wù)要求,內(nèi)容包括但不限于免費(fèi)保修期限、售后服務(wù)人員配備、技術(shù)培訓(xùn)方案、質(zhì)量保證、違約承諾、維修響應(yīng)及故障解決時(shí)間、方案等。
2. “(二)免費(fèi)保修期外售后服務(wù)要求”部分,請(qǐng)?jiān)敿?xì)列明免費(fèi)保修期外的售后服務(wù)要求,內(nèi)容包括但不限于零配件的優(yōu)惠率、維修響應(yīng)及故障解決時(shí)間、方案、提供的服務(wù)等。 3. “(三)其他商務(wù)要求”部分,如有補(bǔ)充,請(qǐng)?jiān)敿?xì)列明。 |
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技術(shù)規(guī)格偏離表 |
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商務(wù)規(guī)格偏離表 |
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評(píng)標(biāo)信息 |
評(píng)標(biāo)信息
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其它 |
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附件 |
原子力顯微鏡.doc |