產(chǎn)品分類
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實(shí)驗(yàn)室儀器
按功能分
- 提供實(shí)驗(yàn)環(huán)境的設(shè)備
- 分離樣品并處理設(shè)備
- 對(duì)樣品前處理的設(shè)備
- 處理實(shí)驗(yàn)器材的設(shè)備
- 保存實(shí)驗(yàn)樣品用設(shè)備
- 1. 冰箱
- 2. 保鮮柜
- 3. 傳感器
- 4. 低壓電氣
- 5. 工業(yè)自動(dòng)化
- 6. 化學(xué)品儲(chǔ)存
- 7. 控濕柜
- 8. 冷藏柜
- 9. 冷凍箱
- 10. 循環(huán)烘箱
- 11. 液氮罐
- 12. 工業(yè)型液氮罐
- 13. 液氮容器配件
- 14. 油桶柜
- 15. 貯存箱
- 1. 搗碎機(jī)
- 2. 超聲波清洗器
- 3. 干燥箱
- 4. 滅菌器\消毒設(shè)備
- 5. 清洗機(jī)
- 1. 蛋類分析儀
- 2. 粉碎機(jī)
- 3. 谷物分析儀
- 4. 混勻儀
- 5. 攪拌器
- 6. 馬弗爐
- 7. 樣品制備設(shè)備
- 8. 破碎、研磨、均質(zhì)儀器
- 9. 消解
- 計(jì)量儀器
- 培養(yǎng)孵育設(shè)備
- 基礎(chǔ)通用設(shè)備
- 通用分析儀器
- 樣品結(jié)果分析
- 1. 計(jì)數(shù)器
- 2. 衡器
- 3. 天平
- 1. CO2培養(yǎng)箱
- 2. 動(dòng)物細(xì)胞培養(yǎng)罐
- 3. 封口用
- 4. 發(fā)芽箱
- 5. 孵育器
- 6. 發(fā)酵罐
- 7. 恒溫槽、低溫槽
- 8. 恒溫恒濕
- 9. 培養(yǎng)箱
- 10. 培養(yǎng)架
- 11. 人工氣候箱
- 12. 水浴、油浴、金屬浴
- 13. 搖床
- 14. 厭氧微需氧細(xì)胞培養(yǎng)設(shè)備
- 1. 邊臺(tái)
- 2. 刨冰機(jī)
- 3. 電熱板
- 4. 輻射檢測(cè)
- 5. 干燥箱
- 6. 瓶口分配器
- 7. 水質(zhì)分析類
- 8. 水質(zhì)采樣器
- 9. 實(shí)驗(yàn)臺(tái)
- 10. 溫、濕、氣壓、風(fēng)速、聲音、粉塵類
- 11. 穩(wěn)壓電源(UPS)
- 12. 文件柜
- 13. 移液器
- 14. 制造水、純水、超純水設(shè)備
- 15. 制冰機(jī)
- 16. 中央臺(tái)
- 17. 真空干燥箱
- 1. 比色計(jì)
- 2. 測(cè)厚儀
- 3. 光度計(jì)
- 4. 光譜儀
- 5. 光化學(xué)反應(yīng)儀
- 6. 電參數(shù)分析儀
- 7. 檢驗(yàn)分析類儀器
- 8. 瀝青檢測(cè)
- 9. 酶標(biāo)儀洗板機(jī)
- 10. 凝膠凈化系統(tǒng)
- 11. 氣質(zhì)聯(lián)用儀
- 12. 氣體發(fā)生裝置
- 13. 水份測(cè)定儀
- 14. 色譜類
- 15. 水質(zhì)分析、電化學(xué)儀
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- 17. 實(shí)驗(yàn)室管理軟件
- 18. 同位素檢測(cè)
- 19. 透視設(shè)備
- 20. 旋光儀
- 21. 濁度計(jì)
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- 16. 水份測(cè)定儀
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- 電化學(xué)分析類
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- 11. 其他
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- 14. 水質(zhì)分析、電化學(xué)儀
- 15. 實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)
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按專業(yè)實(shí)驗(yàn)室分- 化學(xué)合成
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- 供水、水文監(jiān)測(cè)
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暫無數(shù)據(jù),詳情請(qǐng)致電:18819137158 謝謝!
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環(huán)境監(jiān)測(cè)熱銷品牌
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金相制樣制備方法和制備參數(shù)
[2013/5/7]
制備方法是采用晶粒度連續(xù)變小的磨料、通過機(jī)械方式從試樣表面去除材料的一系列步驟。 一種制備方法通常由以下步驟組成:
粗磨,PG
精磨,F(xiàn)G
金剛石拋光,DP
氧化物拋光,OP
Metalog Methods
這七種方法包括方法A、方法B、方法C、方法D、方法E、方法F 和方法G,可幫助您獲得最佳制備結(jié)果。
此外,還有三種簡便制備法: 方法X、方法Y 和方法Z。 這三種簡便制備法非常適用于大量材料,幫助您獲得合格的制備結(jié)果。
Metalogram
請(qǐng)從 Metalogram 中挑選 Metalog 方法。 我們?cè)?nbsp;Metalogram 中按照材料的特有物理屬性(硬度和韌性)顯示了各種材料。制備方法的選擇取決于材料的這些特性。
應(yīng)用
這些制備方法適用于 6 件 30 毫米直徑、用 160 毫米直徑試樣座夾固的已鑲試樣。 試樣面積應(yīng)大致為鑲樣底座面積的 50%。 試樣參數(shù)不同于這些數(shù)值時(shí),可能必須調(diào)整制備時(shí)間或作用力。
制備參數(shù)
表面
制備用磨盤或拋光布。
磨料
研磨與拋光用磨料。
金剛石是我們所有制備方法中應(yīng)用最廣泛的磨料。 唯一例外為 PG 步驟和 OP 步驟。在 PG 步驟中,軟質(zhì)材料的制備可采用其他磨料。OP 步驟則采用了膠態(tài)氧化硅制備無劃痕的精加工表面。 磨料硬度必須為需制備材料硬度的 2.5 至 3 倍。請(qǐng)勿選擇硬度更低的磨料——否則會(huì)產(chǎn)生人為制備缺陷。磨料用量取決于研磨/拋光表面及試樣硬度。 低彈力布配硬質(zhì)試樣時(shí),由于磨料晶粒磨損速度較快,磨料用量會(huì)大于高彈力布配軟質(zhì)試樣時(shí)的用量。
首次制備一種新材料時(shí)必須使用相關(guān)制備方法中指定的磨盤/拋光布。
粒度/晶粒度
所用磨料的粒度或晶粒度。
制備開始階段的磨料晶粒度應(yīng)盡可能小,以防試樣過度受損。 在后續(xù)制備步驟中,不同晶粒度磨料的更換間隔時(shí)間應(yīng)盡可能長,以縮短制備時(shí)間。
潤滑劑
冷卻及潤滑用液體。
根據(jù)材料類型和制備階段,可采用不同類型的潤滑劑。 藍(lán)色和綠色潤滑劑較稀,具有高冷卻、低涂抹的效果。 藍(lán)色潤滑劑為乙醇基潤滑劑,而綠色潤滑劑為水基潤滑劑,不含酒精。紅色潤滑劑具有高涂抹、低冷卻的效果。 要求較高材料去除量時(shí),可選用藍(lán)色或綠色潤滑劑;對(duì)軟質(zhì)和韌性材料拋光時(shí),應(yīng)選用紅色潤滑劑。 潤滑劑與磨料必須單獨(dú)施加。 應(yīng)根據(jù)材料類型和制備時(shí)使用的研磨/拋光盤,施加不同量的潤滑劑和磨料。 一般來說,軟質(zhì)材料要求潤滑劑用量較大,以避免材料受損,但由于磨料磨損小,所以要求磨料用量較少。硬質(zhì)材料要求潤滑劑用量較少,而磨料用量較大,原因是磨料磨損速度較快。 潤滑劑用量必須正確調(diào)節(jié),以獲得最佳制備結(jié)果。 拋光布必須保持潮濕,但不得過濕。 潤滑劑過量只會(huì)沖掉研磨/拋光盤上的磨料,并在試樣與研磨/拋光盤之間形成一厚層潤滑劑,從而降低材料去除量。
旋轉(zhuǎn)速度
研磨/拋光盤的旋轉(zhuǎn)速度。
執(zhí)行 PG 制備步驟時(shí),宜采用高轉(zhuǎn)速,以快速完成材料去除。執(zhí)行FG、DP 和 OP 等制備步驟時(shí),研磨/拋光盤和試樣座的轉(zhuǎn)速均應(yīng)為每分鐘 150 轉(zhuǎn)。 兩者須同向旋轉(zhuǎn)。
由于我們作業(yè)時(shí)采用的是松散型磨料,轉(zhuǎn)速太高會(huì)將研磨/拋光盤上的懸浮液甩出,從而增加磨料和潤滑劑用量。
力
試樣座被壓在研磨/拋光盤上所施加的總力。
力的單位為牛頓。 制備方法中規(guī)定的數(shù)字適用于6個(gè)用試樣座夾緊的 30 毫米直徑的標(biāo)準(zhǔn)試樣。這些試樣為已鑲試樣,試樣面積約為鑲樣底座的 50%。 在 Prepamatic、RotoForce-4 或 Pedemat 上制備單個(gè)試樣時(shí),每個(gè)試樣上的作用力須設(shè)定在制備方法規(guī)定值的 1/6。如果試樣尺寸小于或試樣座上試樣少于上述數(shù)值,則必須相應(yīng)降低作用力,避免發(fā)生變形等損傷。試樣尺寸大于上述數(shù)值時(shí),作用力只需稍稍增大即可。 正確的對(duì)策應(yīng)該是延長制備時(shí)間。 增大作用力會(huì)因摩擦力變大而升高溫度,因而可能產(chǎn)生熱損傷。
時(shí)間
制備時(shí)間指試樣座旋轉(zhuǎn)并被壓在研磨/拋光盤上的持續(xù)時(shí)間。
制備時(shí)間以分鐘為單位。 制備時(shí)間應(yīng)盡可能短,以免引發(fā)浮凸或邊角修圓等人為缺陷。 制備時(shí)間可根據(jù)不同的試樣尺寸作相應(yīng)調(diào)整。 試樣越大,制備時(shí)間越長。每一分鐘必須對(duì)試樣進(jìn)行檢查,以確定下一步驟的開始時(shí)間。 試樣尺寸小于標(biāo)準(zhǔn)尺寸時(shí),應(yīng)保持恒定制備時(shí)間并降低作用力。
粗磨,PG
精磨,F(xiàn)G
金剛石拋光,DP
氧化物拋光,OP
Metalog Methods
這七種方法包括方法A、方法B、方法C、方法D、方法E、方法F 和方法G,可幫助您獲得最佳制備結(jié)果。
此外,還有三種簡便制備法: 方法X、方法Y 和方法Z。 這三種簡便制備法非常適用于大量材料,幫助您獲得合格的制備結(jié)果。
Metalogram
請(qǐng)從 Metalogram 中挑選 Metalog 方法。 我們?cè)?nbsp;Metalogram 中按照材料的特有物理屬性(硬度和韌性)顯示了各種材料。制備方法的選擇取決于材料的這些特性。
應(yīng)用
這些制備方法適用于 6 件 30 毫米直徑、用 160 毫米直徑試樣座夾固的已鑲試樣。 試樣面積應(yīng)大致為鑲樣底座面積的 50%。 試樣參數(shù)不同于這些數(shù)值時(shí),可能必須調(diào)整制備時(shí)間或作用力。
制備參數(shù)
表面
制備用磨盤或拋光布。
磨料
研磨與拋光用磨料。
金剛石是我們所有制備方法中應(yīng)用最廣泛的磨料。 唯一例外為 PG 步驟和 OP 步驟。在 PG 步驟中,軟質(zhì)材料的制備可采用其他磨料。OP 步驟則采用了膠態(tài)氧化硅制備無劃痕的精加工表面。 磨料硬度必須為需制備材料硬度的 2.5 至 3 倍。請(qǐng)勿選擇硬度更低的磨料——否則會(huì)產(chǎn)生人為制備缺陷。磨料用量取決于研磨/拋光表面及試樣硬度。 低彈力布配硬質(zhì)試樣時(shí),由于磨料晶粒磨損速度較快,磨料用量會(huì)大于高彈力布配軟質(zhì)試樣時(shí)的用量。
首次制備一種新材料時(shí)必須使用相關(guān)制備方法中指定的磨盤/拋光布。
粒度/晶粒度
所用磨料的粒度或晶粒度。
制備開始階段的磨料晶粒度應(yīng)盡可能小,以防試樣過度受損。 在后續(xù)制備步驟中,不同晶粒度磨料的更換間隔時(shí)間應(yīng)盡可能長,以縮短制備時(shí)間。
潤滑劑
冷卻及潤滑用液體。
根據(jù)材料類型和制備階段,可采用不同類型的潤滑劑。 藍(lán)色和綠色潤滑劑較稀,具有高冷卻、低涂抹的效果。 藍(lán)色潤滑劑為乙醇基潤滑劑,而綠色潤滑劑為水基潤滑劑,不含酒精。紅色潤滑劑具有高涂抹、低冷卻的效果。 要求較高材料去除量時(shí),可選用藍(lán)色或綠色潤滑劑;對(duì)軟質(zhì)和韌性材料拋光時(shí),應(yīng)選用紅色潤滑劑。 潤滑劑與磨料必須單獨(dú)施加。 應(yīng)根據(jù)材料類型和制備時(shí)使用的研磨/拋光盤,施加不同量的潤滑劑和磨料。 一般來說,軟質(zhì)材料要求潤滑劑用量較大,以避免材料受損,但由于磨料磨損小,所以要求磨料用量較少。硬質(zhì)材料要求潤滑劑用量較少,而磨料用量較大,原因是磨料磨損速度較快。 潤滑劑用量必須正確調(diào)節(jié),以獲得最佳制備結(jié)果。 拋光布必須保持潮濕,但不得過濕。 潤滑劑過量只會(huì)沖掉研磨/拋光盤上的磨料,并在試樣與研磨/拋光盤之間形成一厚層潤滑劑,從而降低材料去除量。
旋轉(zhuǎn)速度
研磨/拋光盤的旋轉(zhuǎn)速度。
執(zhí)行 PG 制備步驟時(shí),宜采用高轉(zhuǎn)速,以快速完成材料去除。執(zhí)行FG、DP 和 OP 等制備步驟時(shí),研磨/拋光盤和試樣座的轉(zhuǎn)速均應(yīng)為每分鐘 150 轉(zhuǎn)。 兩者須同向旋轉(zhuǎn)。
由于我們作業(yè)時(shí)采用的是松散型磨料,轉(zhuǎn)速太高會(huì)將研磨/拋光盤上的懸浮液甩出,從而增加磨料和潤滑劑用量。
力
試樣座被壓在研磨/拋光盤上所施加的總力。
力的單位為牛頓。 制備方法中規(guī)定的數(shù)字適用于6個(gè)用試樣座夾緊的 30 毫米直徑的標(biāo)準(zhǔn)試樣。這些試樣為已鑲試樣,試樣面積約為鑲樣底座的 50%。 在 Prepamatic、RotoForce-4 或 Pedemat 上制備單個(gè)試樣時(shí),每個(gè)試樣上的作用力須設(shè)定在制備方法規(guī)定值的 1/6。如果試樣尺寸小于或試樣座上試樣少于上述數(shù)值,則必須相應(yīng)降低作用力,避免發(fā)生變形等損傷。試樣尺寸大于上述數(shù)值時(shí),作用力只需稍稍增大即可。 正確的對(duì)策應(yīng)該是延長制備時(shí)間。 增大作用力會(huì)因摩擦力變大而升高溫度,因而可能產(chǎn)生熱損傷。
時(shí)間
制備時(shí)間指試樣座旋轉(zhuǎn)并被壓在研磨/拋光盤上的持續(xù)時(shí)間。
制備時(shí)間以分鐘為單位。 制備時(shí)間應(yīng)盡可能短,以免引發(fā)浮凸或邊角修圓等人為缺陷。 制備時(shí)間可根據(jù)不同的試樣尺寸作相應(yīng)調(diào)整。 試樣越大,制備時(shí)間越長。每一分鐘必須對(duì)試樣進(jìn)行檢查,以確定下一步驟的開始時(shí)間。 試樣尺寸小于標(biāo)準(zhǔn)尺寸時(shí),應(yīng)保持恒定制備時(shí)間并降低作用力。